活动 彤程电子、北京科华、北旭电子、欣奕华、汉拓光学等已确认演讲——2021势银光刻胶产业大会 会议背景光刻胶作为微电子器件图形化加工的关键材料,被应用在泛半导体、印刷电路板等产业的生产制程中。 2021-05-20
材料设备 上海新阳预计3月底前ASML-1400光刻机进入合作方现场 上海新阳(300236.SZ)发布公告,该公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,根据项目进度,计划安排购买了A ... 2021-01-06
IC制造 深度 | EUV进入3nm最大绊脚石是光刻胶,新材料暗潮汹涌要搏出位 台积电即将量产全球最先进的 5nm 工艺技术,在摩尔定律看似顺遂推进下,材料技术发展的重重阻碍却在台面下暗潮汹涌地蠢动着。 2020-03-16
材料设备 浅谈瓦森纳安排的修订之计算光刻软件 2019年最新版“瓦森纳安排Wassenaar Arrangement”的“军民两用技术清单”中,在2018年版的基础上,将原“物理模拟软件Physics-ba ... 2020-03-10
材料设备 继续!日本强硬拒绝撤回对韩国制裁 从7月1日开始,日本突然宣布,氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching G ... 2019-07-11