光刻胶作为微电子器件图形化加工的关键材料，被应用在泛半导体、印刷电路板等产业的生产制程中。
在半导体领域，8寸/12寸晶圆所使用的KrF/ArF光刻胶是制造深亚微米级乃至纳米级器件的关键耗材，其中KrF光刻胶国产化率不到5%，只有两到三款产品实现少量替代，主要集中在0.18-0.25um工艺线宽，ArF光刻胶目前仍完全依赖进口，EUV光刻胶更是处于产业空白状态；在面板显示领域，TFT正性光刻胶国内本土产能不足，彩色/黑色光刻胶还严重依赖进口；在PCB领域，国内本土企业已具备一定市场竞争力，但在线路刻蚀用光刻胶领域还有持续扩大国产化空间。
纵观国内光刻胶市场情况，尽管印刷电路板用光刻胶国产化率已经达到了50%，但在半导体及显示领域光刻胶国产化进度缓慢，尤其半导体领域的高端光刻胶，已经成为了当下国内亟需攻克的产业化难题。
近年来，国家出台了多项产业政策助力高端光刻胶在内的关键原材料行业的发展，例如今年3月，财政部等三部门联合印发《关于支持集成电路产业和软件产业发展进口税收政策的通知》，提到针对光刻胶生产企业进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品时免征进口税。就国内企业而言，2020年有近十几家上市企业纷纷布局光刻胶相关项目。
在电子信息产业高速发展的今天，为推动改善光刻胶材料及设备出现的“卡脖子”问题，同时也为加强行业内产品与技术、市场现状与趋势的交流，促进政-产-学-研-资各环节协同发展，势银（TrendBank）将邀请业内资深专家、头部企业高层于6月召开“2021势银光刻胶产业大会”。
会议名称：2021势银光刻胶产业大会
会议时间：6月24日-25日
地点：上海阿纳迪酒店（上海市长宁区临虹路7号）
会议规模：300人
主办单位：势银（TrendBank）
联合主办：上海彤程电子材料有限公司
承办单位：势银膜链
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