上海新阳(300236.SZ)发布公告，该公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。
后受复杂原因影响，公司进口光刻机的程序更加复杂。公司与光刻机供应商、合作方沟通协调设备运输与安装细节，涉及场地条件、物流运输条件等等，没能在规定时间内完成，但与合作方的具体合作细节已签署了《合作框架协议》。
根据该合作框架协议，甲方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司与公司(乙方)将合作在甲方指定工厂搭建光刻胶验证平台，该平台由ArF光刻机(乙方负责提供)和涂胶显影机(甲方负责提供)组成，用于先进光刻胶验证。
甲乙双方将在ArF(193nm)干法光刻胶产业化领域采取多样化的模式，开展广泛、深入的合作，包括但不限于：项目合作、团队合作等。
未来公司将采购的用于193nmArF干法光刻胶研发的ASML-1400光刻机放置于合作方指定的地点，双方正在沟通协商光刻机入厂的底座安装及制作事宜，待底座安装完成后，光刻机即可进入合作方进行调试使用。近期公共卫生事件原因，运输物流可能再次受其影响，预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。
