微电子产业特种化学品和材料解决方案厂商英特格 （Entegris） 宣布，新一代的光罩盒已获得半导体生产设备商艾司摩尔 （ASML） 的认证，可用于极紫外光 （EUV） 微影技术的芯片大量生产上，用以保护在制造过程中光罩的完整。
英格尔表示，日前公司正式发布了下一代 EUV 1010 光罩盒，可用于以 EUV 微影技术进行大量生产的半导体制造上。英特格进一步指出，EUV 1010 光罩盒是透过与全球最大芯片生产设备制造商之一的 ASML 密切合作而开发的，已率先成为全世界第一个获得 ASML 的认证，可用于 NXE:3400B 以及未来更先进机台上的光罩盒产品。
英特格还表示，随着半导体产业开始大量使用 EUV 微影技术进行先进技术节点的大量制造，保持 EUV 光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要高。因此，英特格的 EUV 1010光 罩盒已经通过 ASML 全面认证，可用于他们的最新一代 EUV 微影机，并展现对的 EUV 光罩保护能力，这其中还包括了解决最关键的粒子污染挑战。因此，英特格的 EUV 1010 光罩盒也因此让客户能够顺利地使用这最先进的微影制程，来制造出产品所需的越来越小线宽。
而为了在 ASML 的 NXE:3400B 微影机中实现这些性能水准，英特格开发出使用于接触光罩和控制环境上的新型技术。英特格晶圆和光罩处理副总裁 Paul Magoon 表示，EUV 1010 代表了英特格的产品在改进缺陷率方面的重大突破，使得为先进技术节点实施的客户，可以专注于提高效率和产量。而且，与 ASML 的共同开发和测试，也确保 EUV 1010 可符合最先进的 EUV 微影机的要求。
